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節原 裕一

氏名 節原 裕一 SETSUHARA Yuichi
所属 接合科学研究所
(兼任)構造・機能先進材料デザイン教育研究センター
職名 教授
E-mail E-mail
URL http://www.jwri.osaka-u.ac.jp/~dpt2/index.html

略歴

1991.3
大阪大学 工学研究科 電気工学専攻 博士 修了 工学博士(大阪大学)
1997.2-1997.2
国際協力事業団 個別専門家委嘱
2003.4-2004.3
東北大学流体科学研究所附属流体融合研究センター 講師併任
2004.7
大阪大学 接合科学研究所・教授

研究キーワード

表面改質工学

研究内容

新しい大面積・高密度プラズマ源の開発、表面改質加工プロセスならびに材料創成から宇宙推進への応用に加え、固体原子との熱的に非平衡なエネルギー変換・付与過程に注目した表面改質技術の開発と半導体プロセスへの応用に関する研究を行っています。

所属学会

応用物理学会、日本航空宇宙学会、表面技術協会、溶接学会

受賞

最近の発表論文

Yuichi Setsuhara, Kosuke Takenaka, Akinori Ebe, Kazuaki Nishisaka: Production and Control of Large-Area Plasmas for Meters-Scale Flat-Panel-Display Processing with Multiple Low-Inductance Antenna Modules, PLASMA PROCESSES & POLYMERS 4, S628-S632 (2007).

Kosuke Takenaka, Takashi Sera, Akinori Ebe, Yuichi Setsuhara: Production and Plasma Profiles of Inductively Coupled Plasmas Sustained with Low-Inductance Internal Antenna, PLASMA PROCESSES & POLYMERS 4, S1013-S1016 (2007).

Kosuke Takenaka, Yuichi Setsuhara, Kazuaki Nishisaka, Akinori Ebe: Properties of Inductively-Coupled Plasmas Driven by Multiple Low-Inductance Internal-Antenna Units, PLASMA PROCESSES & POLYMERS 4, S1009-S1012 (2007).

Large-Area and High-Speed Deposition of Microcrystalline Silicon Film by Inductive Coupled Plasma using Internal Low-Inductance Antenna: Eiji Takahashi, Yasuaki Nishigami, Atsushi Tomyo, Masaki Fujiwara, Hirokazu Kaki, Kiyoshi Kubota, Tsukasa Hayashi, Kiyoshi Ogata, Akinori Ebe and Yuichi Setsuhara, Japanese Journal of Applied Physics Vol. 46, No. 3B, 2007, pp. 1280-1285 (2007).

Ultrathin amorphous Si layer formation by femtosecond laser pulse irradiation: Yusaku Izawa, Yasukazu Izawa, Yuichi Setsuhara, Masaki Hashida, Masayuki Fujita, Ryuichiro Sasaki, Hiroyuki Nagai and Makoto Yoshida, Appl. Phys. Lett. 90, 044107 (2007)

Characterization of Amorphous Hydrogenated Carbon Formed by Low-Pressure Inductively Coupled Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition Using Multiple Low-Inductance Antenna Units: Osamu Tsuda, Masatou Ishihara, Yoshinori Koga, Shuzo Fujiwara, Yuichi Setsuhara, and Naoyuki Sato, J. Phys. Chem. B 109 (No. 11), pp. 4917-4922 (2005).