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Facilities
実験設備（成膜装置）
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有機金属気相成長装置（As系およびP系）
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日本酸素製 HR-455M
研究テーマ
「希土類添加半導体の作製と物性評価」
「III-V族半導体量子構造の原子レベル制御成長」
↑
有機金属気相成長装置（GaN系）
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大陽日酸製SR2000
研究テーマ
「希土類添加窒化物半導体の作製と物性評価」
↑
リモート式プラズマＣＶＤ装置（独自開発）
†
研究テーマ
「機能性透明酸化物薄膜の作製と物性評価」
↑
実験設備（プロセス・評価装置）
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ICP-RIE装置
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Cl2によるGaNのドライエッチング
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スパッタ装置
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SiO2,ITO膜の成膜
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フォトリソグラフィ装置
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マスクアライナーMA-20型
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フォトルミネッセンス測定装置
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Ar+ レーザー
SPEX1702/04分光器
Ge PINディテクター
可視光領域光電子増倍管
30cm分光器+CCDカメラ
フォトンカウンティング
Liq-He用クライオスタット
10K冷凍機
50cm分光器+CCDアレイ+PMT
He-Cdレーザ
色素レーザ
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ホール効果測定・電気特性評価測定装置
†
Hall効果測定装置
電気特性評価装置
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PL_VIS1.JPG
1135件
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PECVD_1.JPG
1044件
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]
PECVD_2.JPG
983件
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詳細
]
MOCVD2号機-1.JPG
802件
[
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]
MOCVD2号機-2.JPG
955件
[
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]
ICP.JPG
1099件
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]
IV.JPG
1021件
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Last-modified: 2024-05-13 (月) 10:02:33
Top/Facilities
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PL_VIS1.JPG 1135件
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PECVD_1.JPG 1044件
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PECVD_2.JPG 983件
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MOCVD2号機-1.JPG 802件
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MOCVD2号機-2.JPG 955件
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ICP.JPG 1099件
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IV.JPG 1021件
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