分子線エピタキシー装置（VG製 V80H）
金属、半導体などの薄膜・人工格子を、原子レベルで精密に構造制御することが出来ます。反射高速電子線回折(RHEED)、走査型プローブ顕微鏡、Arスパッタリング、最高温度1300℃の高温ステージなどの試料準備・処理チャンバーが超高真空で接続されており、製膜・処理・分析を同一チャンバー内で行うことが出来ます。
到達真空度： 5×10-11 Torr以下
製膜中真空度： 5×10-10 Torr以下
最高基板温度： 800℃
中谷研究室
大阪大学 大学院工学研究科 マテリアル生産科学専攻
マテリアル科学コース 材料物性学講座表界面物性学領域
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製膜装置
超高真空DC/RFマグネトロンスパッタリング装置（自作）
超高真空対応のスパッタリング装置です。製膜室は反射高速電子線回折(RHEED)による構造評価室と超高真空を介して接続されています。
構造評価
走査型プローブ顕微鏡（Omicron製 UHV AFM/STM）
分子線エピタキシー装置と超高真空を介して接続されており、その場測定対応です。
全自動多目的X線回折装置（Rigaku製 SmartLab）
9kW回転対陰極式、薄膜構造解析対応
物性評価
物理特性測定システム（Quantum Design製 PPMS）
磁気特性をはじめとする多種多様な物理特性を測定するシステムです。
磁気特性測定装置（Quantum Design製 MPMS5）
超伝導量子干渉素子を使用した、超高感度の磁気特性測定装置です。
振動試料型磁力計（理研電子製）
磁区観察用磁気光学Kerr効果顕微鏡（NEOARK製）
2軸精密磁気光学Kerr効果測定装置（NEOARK製）
磁気光学Kerr効果測定装置（NEOARK製）
温度・波長可変磁気光学Kerr効果測定装置（日本分光製）
磁気抵抗効果・ホール効果測定測定装置
試料処理
真空赤外線加熱炉（ULVAC製）
高温における電気抵抗測定も可能です。
磁場中熱処理炉
抵抗加熱炉
アルミナ炉心管、石英炉心管
プラズマアッシング装置
微細加工／その他
Arイオンミリング装置（ELIONIX製 EIS-200ER）
マスクアラインメント装置（ミカサ製 MA-10）
UV露光により、フォトマスクのパターンを薄膜試料上に生成します。
触針段差計 （ミツトヨ製 SV-3000）
超音波ウェッジワイヤボンダー（WEST BOND製）
電子ビーム微細加工装置（Elionix製 7300TFE特型）
約100nmの面内サイズを有するナノドットを作製することができます。