Facilities - Fujiwara Laboratory HP

実験設備（成膜装置）†

有機金属気相成長装置（As系 P系）†

日本酸素製 HR-455M
研究テーマ
- 「希土類添加半導体の作製と物性評価」
- 「III-V族半導体量子構造の原子レベル制御成長」

有機金属気相成長装置（GaN系）†

大陽日酸製SR2000
研究テーマ
- 「希土類添加窒化物半導体の作製と物性評価」

リモート式プラズマＣＶＤ装置（独自開発）†

研究テーマ
- 「機能性透明酸化物薄膜の作製と物性評価」

実験設備（プロセス・評価装置）†

ICP-RIE装置†

ICP

Cl2によるGaNのドライエッチング

スパッタ装置†

SiO2,ITO膜の成膜

フォトリソグラフィ装置†

マスクアライナーMA-20型

フォトルミネッセンス測定装置†

Ar+ レーザー
SPEX1702/04分光器
Ge PINディテクター
可視光領域光電子増倍管
30cm分光器+CCDカメラ
フォトンカウンティング
Liq-He用クライオスタット
10K冷凍機
50cm分光器+CCDアレイ+PMT
He-Cdレーザ
色素レーザ

ホール効果測定・電気特性評価測定装置†

Hall効果測定装置

Measurement system

電気特性評価装置

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PL_VIS1.JPG 1066件 [詳細]

MOCVD2号機-2.JPG 907件 [詳細]

PECVD_1.JPG 991件 [詳細]

PECVD_2.JPG 929件 [詳細]

ICP.JPG 1037件 [詳細]

IV.JPG 966件 [詳細]

MOCVD2号機-1.JPG 762件 [詳細]

Last-modified: 2023-02-07 (火) 11:57:40